江苏鲁汶仪器有限公司
所属行业：仪器/仪表/工业自动化/电气
企业规模：101-500人
企业性质：中外合资
江苏鲁汶仪器有限公司招聘职位：
公司描述：
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公司简介：
江苏鲁汶仪器有限公司成立于 2015 年 9 月，由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。
公司总部位于江苏省徐州市，在比利时和北京设有研发中心，在上海、武汉、西安、成都、中国台湾、新加坡、
韩国等地设有市场和技术服务中心。
【愿景】成为半导体关键装备和解决方案的首选供应商。
【使命】面向半导体前沿技术需求，推动芯片制造技术改革，提供从装备研发、生产到技术支持的完整
服务体系。
【核心价值观】“求实、创新、责任、信赖、分享”
【产品】公司主要产品为基于等离子体技术的 12 英寸和 8 英寸刻蚀和沉积设备，包括 RIE， ICP， IBE
以及 PECVD 和 ICP-CVD。部分机台兼容 4 英寸到 8 英寸晶圆，适用于中小规模产线和中试研发线等。LMEC 平
台刻蚀系统是公司的核心专利产品。该机台在同一个真空系统中集成了 RIE 刻蚀、IBE 刻蚀和 PECVD 沉积等
多个腔室，可以有效地刻蚀以金属材料为主要成分的磁隧道结，具有侧壁陡直、等离子体损伤小、刻蚀产率
高等特点，为室温下难以形成挥发性刻蚀产物的材料提供了独特的刻蚀工艺解决方案，适用于磁存储器、磁
传感器和其它以磁隧道结为基础的自旋电子学器件的生产和研发。金属刻蚀系统是面向 8 英寸集成电路晶圆
制造的量产型设备，可提供优异的工艺质量和产能，适用于 0.11um 及以上技术代的铝互连工艺。气相分解金
属沾污收集系统（VPD）是鲁汶仪器自主研发的核心产品之一，可应用于先进集成电路制造，大晶圆生产和回
收，先导工艺研发等领域的金属沾污控制。
【团队】公司拥有国际化的专家团队，建设了苏北地区首家“诺贝尔奖得主工作室”。技术团队由诺贝
尔奖获得者、三名国家级专家、多名国内外半导体领域知名教授、资深工程师、及高校科研院所的年轻技术
骨干组成。
【核心技术】作为以创新为主导的全球性高科技半导体装备企业，鲁汶仪器研发的磁存储器刻蚀系统在
技术上全球领先，为集成电路制造产业中先进 MRAM 刻蚀工艺提供了独特的技术解决方案。