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职位：HDD 薄膜材料与表界面化学工程师
发布时间：2026-09-20
工作地点：深圳
信息来源：前程无忧(51JOB)
职位类型：全职
职位描述
职能类别:材料工程师
岗位职责：

1. 采用 X 射线光电子能谱（XPS）、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（ToF SIMS）、透射电子显微镜及能谱分析（TEM–EDS/EELS）、X 射线反射（XRR）、拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱（FTIR）和气相色谱–质谱（GC–MS）等手段，协助完成样品测试，分析元素组成、化学价态、深度分布、界面扩散、碳键结构、润滑剂及有机污染物。
2. 结合膜层结构和化学分析结果，协助推断磁控溅射、反应溅射、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、等离子体辅助化学气相沉积（PACVD）及表面处理过程中的关键条件，包括靶材体系、反应气体、气体分压、基片温度、偏压、等离子体状态和后处理方式。
3. 参与 DLC 及相关碳保护层的结构和性能分析，研究 sp2/sp3 键合比例、氢或氮掺杂、缺陷密度、表面能及膜层连续性与附着、耐磨、耐腐蚀性能之间的关系。
4. 分析 PFPE 类润滑剂的分子结构、端基反应、覆盖率、吸附和迁移行为，识别硅氧烷、烃类及其他痕量污染物的来源和失效路径，为盘片清洗、润滑和环境控制提供建议。
5. 参与建立电化学和环境可靠性评价方法，采用极化曲线、电化学阻抗谱、湿热及腐蚀气氛试验，评估碳保护层缺陷、针孔和界面暴露引起的局部腐蚀行为。
6. 参与设计复现试验和参数矩阵，将逆向分析得到的工艺假设转化为可执行的沉积方案；依据膜厚、成分、化学态、微观结构、磁性能和可靠性结果逐轮修正工艺窗口。
7. 与薄膜制备、磁性测试、微结构表征和仿真团队协同，为微磁、原子尺度及多物理场模型提供材料参数、界面条件和实验验证数据。
8. 建立样品档案、材料参数库、分析方法和标准作业程序，协助撰写完整可追溯的技术报告，并参与专利与研发项目材料撰写。



任职要求：
1. 材料化学、物理化学、表面科学、薄膜材料、等离子体化学、腐蚀科学或相关专业博士应届毕业生，具体薪酬待遇一事一议。
2. 具备薄膜生长、表面与界面反应、吸附与扩散、成核与相分离等方面的理论基础，能够将化学分析结果与沉积工艺及材料性能建立对应关系。
3. 熟悉 XPS、AES、ToF SIMS、Raman、FTIR、GC–MS 等分析技术中的两类或以上，有谱图解析、深度剖析、定量校准和误差判断的科研经历优先；具备 XPS 或 ToF SIMS 实际课题经验者优先。
4. 具有磁控溅射、反应溅射、PECVD、PACVD 或其他真空薄膜沉积工艺的研究经验，能够分析气体组成、分压、基片温度、偏压和等离子体参数对薄膜结构的影响。
5. 能够独立制定逆向分析和复现验证方案，明确样品需求、检测顺序、对照组、关键变量及验收指标，并能对多种表征结果进行交叉验证。
6. 具备数据分析和试验设计能力，能够使用 Python、MATLAB、Origin 或同类工具完成数据处理、统计分析和可视化。
7. 能够阅读英文论文、专利和设备资料，具备清晰的技术写作和跨团队沟通能力。



优先考虑：
1. 具有磁性材料、磁传感器、半导体薄膜、显示薄膜、真空镀膜或精密表面工程相关课题经历；
2.熟悉 CoCrPt、FePt、Ru、软磁底层、氧化物晶界、DLC 或其他超薄多层膜材料；
3.熟悉 PFPE 润滑剂、碳膜表面改性、摩擦化学、污染吸附或头盘界面可靠性；
4.具有电化学阻抗谱、动电位极化、局部腐蚀、湿热试验或腐蚀产物分析经验；
5.具有 FIB 制样、TEM–EDS/EELS、原子探针、同步辐射或其他高空间分辨材料分析经验。 公司简要介绍：
公司名称:深圳市大数极限科技有限公司
公司类型:民营公司
公司规模:500-1000人
公司介绍: