工作职责:
1、参与光刻机成像控制相关系统设计；
2、根据整机性能需求和规格进行各层指标分解，提出优化平衡系统方案，给出光刻机各分系统指标需求；
3、针对光刻机功能需求和硬件配置，设计整机工作流程并不断对其进行优化；
4、围绕系统关键技术，优化成像控制模型及方案；
5、针对产品开发、集成以及应用过程中出现的整机曝光/成像相关系统级问题，进行诊断和分析，并提供系统级解决方法；
6、开展整机曝光/成像控制相关预研工作，制定仿真分析流程并不断对其进行优化；
7、分析并解决复杂的多学科问题，保证研发项目的顺利开展。
任职资格:
1. 应用数学、应用物理、光学、光学工程等相关专业硕士及以上学历；
2. 能够使用Matlab、C语言或物理仿真软件进行物理/数学建模；
3. 具备良好的数学功底，具备将工程问题与数学模型相结合的素养；
4. 具备复杂系统设计、物理建模、数据分析/数学仿真经验优先 ；
5. 具备光学成像设计经验，如CodeV、Zemax、Matlab等开发经验者优先。