杭州星原驰半导体有限公司

星原驰主营业务简述

杭州星原驰半导体有限公司（以下简称“星原驰” ）是一家致力于半导体领域精密真空镀膜设备（化学气相沉积（CVD）,原子层沉积（ALD），外延生长（EPI）和物理气相沉积（PVD））研发、生产和销售的高科技企业。公司成立于2021年，总部位于中国杭州，并在上海和韩国水原设有研发中心。

公司产品广泛应用于12 英寸 DRAM内存芯片、Logic逻辑芯片和VNAND闪存芯片等关键半导体器件的制造。公司和某DRAM客户联合开发的LPCVD Poly Si设备已经通过客户的验证，正在批量订单准备中。公司自主研发的QCM SiO2 ALD也已经开始国内某Logic客户的On-site demo。公司也已经开始了某DRAM客户的High K Furnace的联合开发协议洽谈，也和某国际DRAM客户在3D DRAM的Furnace EPI联合开发协议的洽谈。 

公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括 CVD 设备、ALD 设备及 PVD 设备三个系列。薄膜沉积设备作为集成电路晶圆制造的核心设备，沉积 的薄膜是芯片电路中的功能材料层。薄膜沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用，设备产业化应用需要经过产线长期调试验证。集成电路制造产线向更小线宽发展，对于薄膜沉积设备技术性能、工艺种类均提出更多要求。